激光電鍍是新興的高能束流電鍍技術，它對微電子器件和大規(guī)模集成電路的生產和修補具有重大意義。目前，雖然激光電鍍原理、激光消融、等離子激光沉積和激光噴射等方面還在研究之中， 但其技術已在實用。當一種連續(xù)激光或沖激光照射在電鍍池中的陰極表面時，不僅能大大提高金屬的沉積速度，而且可用計算機控制激光束的運動軌跡而得到預期的復雜幾何圖形的無屏蔽鍍層。20世紀80年代又研究出一種激光噴射強化電鍍的新技術，將激光強化電鍍技術與電鍍液噴射結合起來，使激光與鍍液同步射向陰極表面，其傳質速度大大超過激光照射所引起的微觀攪拌的傳質速度，從而達到很高沉積速度。

1、沉積速度快，如激光鍍金可達1μm/s ，激光鍍銅可達10μm/s，激光噴射鍍金可達12μm/s，激光噴射鍍銅可達50μm/s；

2、金屬沉積僅發(fā)生在激光照射區(qū)域，無需采用屏蔽措施便可得到局部沉積鍍層，從而簡化了生產工藝；

3、鍍層結合力大大提高；

4、容易實現(xiàn)自動控制；

5、節(jié)約貴金屬；

6、節(jié)省設備投資和加工時間。